溫州杭州臺(tái)州金華寧波水處理設(shè)備/EDI設(shè)備
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人氣：1409 發(fā)布時(shí)間：2010-08-20 21:31 關(guān)鍵詞：飲用水設(shè)備 產(chǎn)品型號(hào)： 應(yīng)用領(lǐng)域：水處理 產(chǎn)品價(jià)格：面議 想了解更多產(chǎn)品詳情，請(qǐng) |
EDI原理及工作過(guò)程
EDI技術(shù)是將兩種已經(jīng)成熟的淨(jìng)水技術(shù)：電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合。將離子交換樹(shù)脂填充在陰、陽(yáng)離子交換膜（專用膜）之間形成EDI單元(俗稱淡水室)，在一
定電壓、電流作用下使離子從淡水室進(jìn)入到鄰近的濃水室。
EDI組件將給水合成三股獨(dú)立的水流:
① 純水（最高利用率爲(wèi)90-99%）
② 濃水（純水的5-10%）
③ 極水（1-2%排放）
極水先經(jīng)過(guò)陽(yáng)極區(qū)再進(jìn)入陰極區(qū)。極水可以從電極區(qū)攜出電解産生的氯氣、氧氣和氫氣。
EDI與傳統(tǒng)溫床的比較
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項(xiàng)目
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EDI
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溫床
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產(chǎn)水性質(zhì)
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15～18MΩ·cm
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2～10MΩ·cm
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穩(wěn)定性
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水質(zhì)穩(wěn)定
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水質(zhì)受樹(shù)脂交換狀況，再生品質(zhì)影響大
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操作性
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操作簡(jiǎn)便，無(wú)需專業(yè)熟練工
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再生時(shí)對(duì)操作人員操作水平要求高
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環(huán)保性
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無(wú)需酸堿，無(wú)任何化學(xué)汙染
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需要酸堿再生，需解決酸堿儲(chǔ)存與排放的問(wèn)題
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連續(xù)運(yùn)行
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再生時(shí)無(wú)需停機(jī)，邊運(yùn)行邊再生
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再生時(shí)需要停機(jī)再生
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運(yùn)行費(fèi)用
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低
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高
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初期投資
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較高
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低
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拋光混床
采用高交換容量、充分再生、無(wú)化學(xué)析出的核子級(jí)樹(shù)脂，去除純水中殘余的微量帶電
離子及弱電解質(zhì)，使水質(zhì)達(dá)到18MΩ·cm以上。
EDI模塊進(jìn)水條件
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PH值
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5.0～9.5
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電導(dǎo)率
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1~20μs/cm,最佳導(dǎo)電率2～20μs/cm
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總C02
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<5ppm
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硅
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<0.5ppm
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硬度以（CaC03計(jì)）
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<1.0ppm
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進(jìn)水壓力
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0.15～0.5MPa
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典型超純水工藝流程圖
應(yīng)用領(lǐng)域
超純水常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。
流程1：預(yù)處理+單級(jí)反滲透+EDI+拋光樹(shù)脂
流程2：預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+EDI+拋光樹(shù)脂
流程3：預(yù)處理+雙級(jí)反滲透+混床MB+拋光樹(shù)脂
ＥＤＩ模塊結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
1、淡水隔板采用衛(wèi)生級(jí)PE材料
2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國(guó)產(chǎn)異相離子交換膜
3、采用進(jìn)口EDI專用均粒樹(shù)脂和國(guó)產(chǎn)EDI專用均粒樹(shù)脂
4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)
5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。
6、固定螺絲采用國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件
7、膜堆出廠最高試壓7bar不漏水
8、膜堆電阻低、功耗小
9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)
10、最大膜堆處理水量3T/H，最小模堆處理水量75L/H
11、純水、濃水、極水通道設(shè)計(jì)合理，不易堵塞，水流分布均勻、無(wú)死角。
進(jìn)水指標(biāo)要求
◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水
◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：＜25ppm。
◎電導(dǎo)率：＜40μS/cm
◎ＰH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI最佳工作的pH范圍為8.0～9.0。
◎溫度： 5～35℃。
◎進(jìn)水壓力：＜4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：＜1.0ppm。
◎有機(jī)物（ TOC）：＜0.5ppm。
◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。
◎變價(jià)金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。
◎H2S：＜0.01ppm。
◎二氧化硅：＜0.5ppm。
◎色度：＜5APHA。
◎二氧化碳的總量：＜10ppm
◎ SDI 15min：＜1.0。
