蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)（etch, develop & cleaning processes）

多功能濕法設(shè)備技術(shù)參數(shù)：

• 型號(hào)8 系列為200毫米晶圓設(shè)計(jì)和15個(gè)系列為300毫米晶圓設(shè)計(jì)

• 數(shù)碼控制處理器

• 天然結(jié)實(shí)的聚丙烯材料NPP，并帶連鎖門

• 清晰可視的ECTFE圓頂蓋子

• 特氟隆材質(zhì)的控制閥

• 可調(diào)節(jié)的氮?dú)鈹U(kuò)散處理裝置

• 可調(diào)降流式排氣及排水（含10’ 柔性導(dǎo)管）裝置

• 電動(dòng)雙絕緣和超載保護(hù)

• 安全門聯(lián)鎖（不允許旋轉(zhuǎn)和試劑滴膠過程中打開處理腔）

• 安全門閉鎖（需要特別按鍵才能打開處理腔）

• 安全門鎖（當(dāng)程序正在運(yùn)行或運(yùn)行結(jié)束后轉(zhuǎn)頭仍在旋轉(zhuǎn)時(shí)，處理腔無法打開。）

多功能濕法設(shè)備主要特點(diǎn)

• 不銹鋼壓力容器

• 雙重保護(hù)的ECTFE包裹不銹鋼壓力容器（通常為單一4升瓶）

• 多重輸出注射器

• 英制或公制尺寸非真空晶圓轉(zhuǎn)頭

• 帶微型支架的非真空轉(zhuǎn)頭

• 真空轉(zhuǎn)頭

• 真空轉(zhuǎn)接器（為小至3毫米小片稱底設(shè)計(jì)的）

• 還可提供其他一些轉(zhuǎn)頭，可根據(jù)樣品或具體的尺寸，包括厚度和所有公差要求來自定義。

儀器介紹

蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)是一種靈活，安全和實(shí)惠的研發(fā)工具，蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)EDC 系列常被應(yīng)用在以溶劑和水為基礎(chǔ)的處理過程：蝕刻-清洗-干燥，開發(fā)-沖洗-干燥，以及利用溶劑和水的清洗。其旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī)部分，具有多種板載滴膠閥的零孔隙度特富龍流體路徑等特點(diǎn)，干凈的ECTFE圓頂蓋使用戶能夠?qū)崟r(shí)觀察過程的安全運(yùn)行，記事是每一單步處理過程模式也可以（我們獨(dú)有的性能）。

蝕刻/顯影/清洗全套EDC 系統(tǒng)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻，開發(fā)和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮?dú)猓┑茸詈蟮奶幚聿襟E。蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在完全干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)還有可選擇的動(dòng)態(tài)線性或徑向滴膠的特性。雖然在這些過程中常采用非真空轉(zhuǎn)頭，蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)仍然具備真空下壓能力。當(dāng)邊緣控制型或真空型轉(zhuǎn)頭附上稱底時(shí)，門插銷、門鎖和電氣聯(lián)鎖為此提供多重保護(hù)，也包括大容積的廢液和廢氣排出口。

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